- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
本設備為三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀，設備采用前開門式真空腔體設計，腔體空間大，可拓展性強，能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內配有上置樣品臺，可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉、加熱，所有操作均通過觸控屏集成控制。設備的真空泵組為兩級式真空系統(tǒng)，由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成，可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環(huán)境；真空系統(tǒng)內含有完善的氣動閥系統(tǒng)，用戶可通過觸控屏進行一鍵式操作實現(xiàn)抽取真空、不停機取放樣、完全停機等操作。
詳情介紹：
本設備的蒸發(fā)源共三組，采取鎢舟蒸發(fā)源，水冷式銅電極，可*大支持260A的大電流，加熱溫度*高可達1800℃，可實現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍，三組獨立熱蒸發(fā)源，不會導致鍍材互相污染。本設備采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現(xiàn)了水電分離，有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結合的設計，真空系統(tǒng)、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作，通電蒸發(fā)、膜厚控制等通過面板獨立操作，在盡可能方便用戶的同時規(guī)避了誤操作的可能。該設備設計完善性能優(yōu)越，是實驗室高精度蒸發(fā)鍍膜試驗的必備之選。
三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀應用領域：金屬和介電膜 ，薄膜傳感器的制造 ，光學元件 ，納米與微電子 ，太陽能電池等。
技術參數(shù)：
|
產品名稱 |
三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀 |
|
|
產品型號 |
CY-EVH500-III-HHH-SS |
|
|
樣品臺 |
尺寸 |
*大支持φ150mm樣品 |
|
功能 |
可旋轉，*高加熱500℃ |
|
|
蒸發(fā)源 |
數(shù)量 |
鎢舟x3 |
|
電源 |
每個蒸發(fā)源配一組獨立電源；三個蒸發(fā)源共三組獨立電源 |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ300x400mm |
|
觀察窗口 |
前置φ100mm |
|
|
腔體材料 |
304不銹鋼 |
|
|
開啟方式 |
前開門式 |
|
|
膜厚控制（選配） |
晶振式膜厚測量儀，可選多通道膜厚控制儀 |
|
|
真空系統(tǒng) |
前級泵 |
雙極旋片泵 |
|
抽氣接口 |
KF16 |
|
|
次級泵 |
渦輪分子泵 |
|
|
抽氣接口 |
CF160 |
|
|
真空測量 |
電阻+電離 復合真空規(guī) |
|
|
排氣速率 |
機械泵1.1L/s 分子泵 600L/s |
|
|
極限真空 |
1.0E-5Pa |
|
|
供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
|
|
抽氣速率 |
旋片泵：1.1L/S |
|
|
控制系統(tǒng) |
PLC自動控制 操作界面：觸控屏+操作面板 （觸摸屏可控制沉積過程和快速數(shù)據(jù)輸入；用戶友好 PLC 軟件系統(tǒng)，可以通過網(wǎng)絡更新） |
|
|
其他 |
供電電壓 |
AC380V,50Hz |
|
整機尺寸 |
1000mm X 800mm X 1500mm |
|
|
整機功率 |
5kW |
|
|
整機重量 |
350kg |
|
