- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。儀器元件高度集成化，在同一個(gè)腔體內(nèi)即實(shí)現(xiàn)了兩種鍍膜功能；本鍍膜儀采用304不銹鋼腔體作真空腔體，鍍膜過(guò)程完全可見(jiàn)。儀器標(biāo)配雙極旋片真空泵，能夠快速達(dá)到1.0E-4Pa的真空度,極限真空度1.0E-5Pa，可滿(mǎn)足大多數(shù)蒸發(fā)鍍膜實(shí)驗(yàn)和二極濺射實(shí)驗(yàn)所需的真空環(huán)境。本儀器體積小，節(jié)省空間，能夠置于試驗(yàn)臺(tái)上使用，一機(jī)多用，性?xún)r(jià)比突出，非常適合各大高校及研究機(jī)構(gòu)選用。
離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀適用范圍：
熱蒸發(fā)與等離子鍍膜復(fù)合型鍍膜儀適用于掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導(dǎo)體材料試驗(yàn)電極的制作等。
熱蒸發(fā)與等離子鍍膜復(fù)合型鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
|
產(chǎn)品名稱(chēng) |
熱蒸發(fā)與等離子鍍膜復(fù)合型鍍膜儀 |
|
|
產(chǎn)品型號(hào) |
CY-EVZ270-I-HP-SS |
|
|
樣品臺(tái) |
位 置 |
頂部設(shè)置 |
|
外形尺寸 |
直徑φ150mm |
|
|
轉(zhuǎn) 速 |
0-20 rpm可調(diào) |
|
|
可調(diào)溫度 |
≦500℃ |
|
|
熱蒸發(fā)源 |
鎢舟 |
|
|
蒸發(fā)電源 |
蒸發(fā)源配一組獨(dú)立電源 |
|
|
濺射電源 |
直流電源 |
|
|
濺射靶 |
數(shù)量2”×1 |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ273mm×H300mm |
|
觀察窗口 |
直徑φ80mm |
|
|
腔體材質(zhì) |
304不銹鋼 |
|
|
開(kāi)啟方式 |
前開(kāi)門(mén)式 |
|
|
膜厚測(cè)量 |
晶體膜厚測(cè)量?jī)x（也可選膜厚控制儀） |
|
|
真空系統(tǒng) |
前級(jí)泵 |
雙極旋片泵，氣體抽速1.1L/S |
|
次級(jí)泵 |
渦輪分子泵,氣體抽速60L/S |
|
|
真空測(cè)量 |
復(fù)合真空計(jì)(電離規(guī)+電阻規(guī)) |
|
|
系統(tǒng)真空 |
5×10-4Pa |
|
|
控制系統(tǒng) |
CYKY自研專(zhuān)業(yè)級(jí)控制器 |
|
|
其他參數(shù) |
供電電源 |
AC220V,50Hz |
|
整機(jī)尺寸 |
600mm×500mm×850mm |
|
|
整機(jī)功率 |
7KW |
|
|
整機(jī)重量 |
120kg |
|
